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皮膚洗浄剤組成物
专利权人:
KAO CORP
发明人:
SAWA DAISUKE,澤 大輔,YAMAMOTO NAOKO,山本 奈緒子,CHEN MING-CHU,陳 明珠
申请号:
JP2016200867
公开号:
JP2017137292A
申请日:
2016.10.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a skin cleansing composition that prevents liquid dripping during use and suppresses viscosity decrease at high temperature, and is excellent in pore cleansing, foaming, and rinsing.SOLUTION: The skin cleansing composition comprises the following components (A), (B), (C) and (D): (A) hydrophobic silica 0.05-6 mass%, (B) water-soluble polymer 0.6-3.5 mass%, (C) anionic surfactant 1-15 mass%, and (D) polyol or polyol ether 50-90 mass%.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】使用時の液だれ、高温での粘度低下を抑制し、また、毛穴に対する洗浄力、泡立ち、すすぎ性に優れた皮膚洗浄剤組成物の提供。【解決手段】次の成分(A)、(B)、(C)及び(D):(A)疎水性シリカ 0.05~6質量%、(B)水溶性高分子 0.6~3.5質量%、(C)アニオン界面活性剤 1~15質量%、(D)ポリオール又はポリオールエーテル 50~90質量%を含有する皮膚洗浄剤組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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