PURPOSE: A residual chlorine production method is provided to consistently produce residual chlorine, such as hypochlorous acid with high sterilizing power without any harm to human body, for supplying to objects in which the consistent sanitization is needed such as a humidifier, a contact lens washer, or a food storage.CONSTITUTION: A residual chlorine production method comprises the following steps a step which installs an electrode to be immersed in a liquid which contains chlorine a step which installs an ultrasonic oscillator in the liquid to transfer ultrasonic waves to the electrode a step which generates residual chlorine in the liquid by applying direct current to the electrode and an ultrasonic wave washing step which washes the surface of the electrode by applying the ultrasonic waves, which is generated by operating the ultrasonic oscillator, to the electrode. The residual chlorine production step and the ultrasonic wave washing step are executed simultaneously. The residual chrorine production step is conducted without any halt and the ultrasonic wave washing step is executed in 20-1,000 seconds of interval.COPYRIGHT KIPO 2013[Reference numerals] (AA) Concentration measurement of remaining chlorine by electrolysis본 발명은 잔류 염소를 지속적으로 생성하는 방법에 관한 것으로, 염소가 함유된 액체 속에 잠긴 전극을 이용하여 잔류 염소를 생성하는 방법으로서, 상기 액체에 잠기도록 전극을 설치하는 단계와 상기 전극에 초음파가 전달되도록 초음파 발진기를 상기 액체 내에 설치하는 단계와 상기 전극에 직류 전류를 인가하여 상기 액체 내에서 잔류 염소를 생성하는 잔류염소 생성단계와 상기 초음파 발진기를 작동시켜 발생된 초음파를 상기 전극에 인가하여 상기 전극의 표면을 세정하는 초음파 세정단계를 포함하여, 염소를 함유한 액체를 지속적으로 전기 분해하여 계속하여 소비하는 액체에 대하여 꾸준히 살균 소독 효과를 구현할 수 있는 잔류 염소의 생성 방법을 제공한다.
