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連続的突出部を備えた研磨表面を有する研磨パッド
- 专利权人:
- ネクスプラナー コーポレイション
- 发明人:
- ポール アンドレ ルフェーブル,ウィリアム シー． アリソン,アレクサンダー ウィリアム シンプソン,ダイアン スコット,ピン フアン,レスリー エム． チャーンズ,ジェイムズ リチャード ラインハート,ロバート ケープリッチ
- 申请号：
- JP20160199806
- 公开号：
- JP2017035781(A)
- 申请日:
- 2016.10.11
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】化学的機械的研磨（ＣＭＰ）において、さらに改良された研磨表面を有する研磨パッドを提供すること。【解決手段】基板を研磨するための研磨パッド２００であって、この研磨パッドは、裏面２０１Ｂに対向する研磨側２０１Ａを有する研磨本体２００Ａと、この研磨本体２００Ａの研磨側２０１Ａと、連続的である複数の突出部２０２を備える研磨表面２００Ｂとを備える。これにより、従来の溝を備えた研磨パッドに対して、スラリーの保持性に優れていることを特徴とする。【選択図】図２Ｃ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
