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粒子線治療装置
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
FUJITAKA SHINICHIRO,藤高 伸一郎,FUJII YUSUKE,藤井 祐介
申请号:
JP2012017478
公开号:
JP2013153993A
申请日:
2012.01.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To improve beam utilization efficiency more than before after shortening one surface scan time necessary for forming uniform dose distribution in a horizontal direction in a uniform scan of a particle beam.SOLUTION: In a line scan which irradiates continuous beams in an X direction and switches off the beams in a Y direction, a fast scan direction is allocated to the X direction and a slow scan direction is allocated to the Y direction. In each line of the X direction constituting the line scan, the arrangement of control points constituting exciting current patterns of scan electromagnets are closely arranged in end parts of irradiation fields compared to center parts.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】粒子線の均一走査において、横方向に一様な線量分布を形成するために必要な一面走査時間を短縮した上で、ビーム利用効率を従来より向上させる。【解決手段】X方向に連続ビームを照射し、Y方向にビームをオフするライン走査において、速い走査方向をX方向に、遅い走査方向をY方向に割り当てる。ライン走査を構成するX方向の各ラインにおいて、走査電磁石の励磁電流パターンを構成する制御点の配置を、照射野端部において中心部と比較して密に配置する。【選択図】 図6
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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