SYSTEMES D'EMISSION DE GAZ REACTIF ET PROCEDE DE TRAITEMENT UTILISANT UN GAZ REACTIF

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专利权人:

LLC;NANOGUARD TECHNOLOGIES

发明人:

KEENER, KEVIN M.,HOCHWALT, MARK A.

申请号：

CA3039902

公开号：

CA3039902C

申请日:

2016.10.19

申请国别(地区):

CA

年份:

2019

代理人:

摘要：

A method of treating a product or surface with a reactive gas, comprises producing the reactive gas by forming a high-voltage cold plasma (HVCP) from a working gas； transporting the reactive gas at least 5 cm away from the HVCP； followed by contacting the product or surface with the reactive gas. The HVCP does not contact the product or surface.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/