Reaktív gázt elõállító rendszer és kezelõeljárás reaktív gáz alkalmazásával

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专利权人:

LLC;NanoGuard Technologies

发明人:

KEENER, Kevin M.,HOCHWALT, Mark A.

申请号：

HUE16788620

公开号：

HUE043743T2

申请日:

2016.10.19

申请国别(地区):

HU

年份:

2019

代理人:

摘要：

A method of treating a product or surface with a reactive gas, comprises producing the reactive gas by forming a high-voltage cold plasma (HVCP) from a working gas； transporting the reactive gas at least 5 cm away from the HVCP； followed by contacting the product or surface with the reactive gas. The HVCP does not contact the product or surface.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/