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ドライプロセス処理方法
专利权人:
TOSHIBA CORP
发明人:
MORITA SHUSUKE,森田 修介,CHIGUSA HISASHI,千草 尚,YOKOTA MASAHIRO,横田 昌広,NISHIMURA KOJI,西村 孝司,TOMA HIDEYUKI,東間 秀之
申请号:
JP2016186932
公开号:
JP2018050483A
申请日:
2016.09.26
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing method for a dry process capable of disinfecting or deodorizing an object without wetting the object and being highly secure.SOLUTION: According to an embodiment, a processing method for a dry process comprises: emitting hypochlorite water whose salinity concentration is 500 mg/kg or less, whose effective chlorine concentration is 5-200 mg/kg, and whose pH is 5-8 in a state of gas or mist containing a hypochlorite component whose particle diameter is 1 μm or less into a predetermined space, causing the hypochlorite component to reach an object placed in the predetermined space without wetting the object, and disinfecting or deodorizing the object.SELECTED DRAWING: Figure 3COPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】対象物を濡らすことなく殺菌又は脱臭でき、安全性の高いドライプロセス処理方法を提供することにある。【解決手段】実施形態によれば、ドライプロセス処理方法は、塩分濃度500mg/kg以下、有効塩素濃度5~200mg/kg、かつ、pH5~8の次亜塩素酸水を気体あるいは粒径1μm以下の次亜塩素酸成分を含むミストの状態で所定空間内に発散させることにより、前記空間内に存在する対象物を濡らすことなく次亜塩素酸成分を到達させ、前記対象物の殺菌又は脱臭を行うドライプロセス処理方法。【選択図】図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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