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荷電粒子顕微鏡において、試料の表面修正を分析する方法
专利权人:
エフ イー アイ カンパニFEI COMPANY
发明人:
パベル ポトツェク,フェイサル ボウクホルベル,マティエス ペトリュス ウィルヘルムス ファン デン ボハード,エミネ コルクマズ
申请号:
JP20160114894
公开号:
JP2017004948(A)
申请日:
2016.06.08
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】荷電粒子顕微鏡試料の修正を行う方法、および装置を提供する。【解決手段】試料ホルダと、荷電粒子放射のビームを生成するソースと、ビームが試料の表面を照射するように、ビームを指向する照明器と、照射に応じて、試料から放出される放射束を受けて、表面の少なくとも一部の画像を生成する画像検出器と、を含む荷電粒子顕微鏡と、材料除去と、材料付着と、これらの組み合わせと、を含むグループから選択された処理を、表面に行うことによって、表面を修正するように起動され得る装置、を用いる。試料の当初の表面である第一表面の第一画像を生成及び記憶する工程と、一次修正工程として、装置を起動し第一表面を修正して第二表面を得る工程と、第二表面の第二画像を生成及び記憶する工程と、数学的画像類似測定基準を用いて
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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