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ジベンゾイルメタン誘導体の光安定化
专利权人:
CIBA HOLDING INC
发明人:
BIRRENBACH GERD,ビレンバッハ,ゲルト
申请号:
JP2012129059
公开号:
JP2012188445A
申请日:
2012.06.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide photostable cosmetic compositions in which the photostability of dibenzoylmethane derivatives is improved, and which are for protecting against UV radiation.SOLUTION: By using 2,4-bis-[[4-(2-ethylhexyloxy)-2-hydroxy]phenyl]-6-(4-methoxyphenyl)-1,3,5-triazine, the photostability of dibenzoylmethane derivatives is considerably improved, and a stabilization of cinnamic acid esters is also indirectly effected, with which photostable cosmetic compositions for protecting against UV radiation are made possible.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を改良したUV放射線に対する保護のための光安定的な化粧品組成物の提供。【解決手段】ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を2,4-ビス〔〔4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ〕フェニル〕-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジンを用いることによって、著しく改良さするとともに、ケイ皮酸エステルの安定化も、間接的に達成された、UV放射線に対する保護のための光安定的な化粧品組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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