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ジベンゾイルメタン誘導体の光安定化
专利权人:
チバ ホールディング インコーポレーテッド
发明人:
ビレンバッハ,ゲルト
申请号:
JP2001581778
公开号:
JP5528651B2
申请日:
2001.05.03
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
(57)< Abstract > Light stability of the dibenzoylmethane derivative is considerably improved 2,4- bis ((4- (2- ethylhexyloxy) -2- hydroxy) phenyl) by using -6- (4- methoxypheny) -1,3,5- triazine, also stabilization of cinnamic acid ester, being achieved indirectly, makes the optical stable cosmetics constituent for conservation for ULTRAVIOLET RADIATION radiation possible. As for the said cosmetics constituent, as for high anti-sunburn characteristic and UVA from the first inside the range of UVB being both, it possesses also high absorbency.2,4-ビス〔〔4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ〕フェニル〕-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジンを用いることによって、ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性は著しく改良され、ケイ皮酸エステルの安定化も、間接的に達成されて、UV放射線に対する保護のための光安定的な化粧品組成物を可能にする。該化粧品組成物は、高い日焼け止め指数と、UVAはもとよりUVBの範囲内の双方での高い吸光度も有する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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