Even when there is the influence of radiation generated with the irradiation of the charged particle beam, and an object thereof is to shorten the acquisition interval of the irradiation position of the charged particle beam. Beam position monitor device (30) includes a plurality of position monitor (4), the beam data processing device for processing the state of the charged particle beam (1) on the basis of a plurality of signals outputted from these (11) comprising, beam data processing unit (11) has a plurality of channel data converter for performing an AD converter processing of a plurality of signals output from the position monitor (4) (21), was treated AD converter voltage Based on the information having the position size processor for calculating a beam position of the beam (1) (23) each time the position monitor (4), while the beam (1) is irradiated to the target (15) irradiated , as different timings the plurality of signals for each corresponding position monitor (4) performs the AD converter process, and a general control section for controlling the plurality of channel data converter (21) (40).荷電粒子ビームの照射に伴って発生する放射線の影響がある場合でも、荷電粒子ビームの照射位置の取得間隔を短くすることを目的とする。 ビーム位置モニタ装置(30)は、複数の位置モニタ(4)と、これらから出力される複数の信号に基づいて荷電粒子ビーム(1)の状態を演算処理するビームデータ処理装置(11)とを備え、ビームデータ処理装置(11)は、位置モニタ(4)から出力される複数の信号のＡＤ変換器処理を実行するチャネルデータ変換部(21)を複数有し、ＡＤ変換器処理された電圧情報に基づいて、ビーム(1)のビーム位置を計算する位置サイズ処理部(23)を位置モニタ(4)毎に有し、ビーム(1)が照射対象(15)に照射されている間に、複数の信号を対応する位置モニタ(4)毎にタイミングをずらしてＡＤ変換器処理を実行するように、複数のチャネルデータ変換部(21)を制御する統括制御部(40)を有する。
