High accuracy the corpuscular ray lighting device which can actualize beam lighting position is obtained. It is something which from target lighting position coordinate of the charged particle beam in the lighting object, from target lighting position coordinate of the charged particle beam in the lighting object, using the aforementioned opposite mapping numerical formula model, controlling the kinetic energy of the aforementioned scanning electromagnet and the charged particle beam with the aforementioned order value which it forms, it tries to have the opposite mapping expedient which possesses the opposite mapping numerical formula model which forms the order value of the scanning electromagnet which actualizes that lighting and the order value of kinetic energy of the charged particle beam to scan the charged particle beam and to irradiate to the lighting object.高精度なビーム照射位置を実現できる粒子線照射装置を得る。照射対象における荷電粒子ビームの目標照射位置座標から、その照射を実現するスキャニング電磁石の指令値及び荷電粒子ビームの運動エネルギーの指令値を生成する逆写像数式モデルを有する逆写像手段を備え、照射対象における荷電粒子ビームの目標照射位置座標から、前記逆写像数式モデルを使用して生成した前記指令値により前記スキャニング電磁石及び荷電粒子ビームの運動エネルギーを制御して荷電粒子ビームを走査し照射対象に照射するようにしたものである。
