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基板への周期的オルガノシリケートまたは自己組織化モノレイヤのスピンオンコーティングのためのシステムおよび方法
- 专利权人:
- 東京エレクトロン株式会社;トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス，インコーポレーテッド
- 发明人:
- ネグレイラ，アイノア ロモ,ナフス，カスリーン,桑原 雄平,松永 浩一
- 申请号：
- JP20160540536
- 公开号：
- JP2017505534(A)
- 申请日:
- 2014.12.15
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、分子自己組織化化学物質（MSA）を用いて基板上にフォトレジスト膜および／または低誘電率（low-k）膜を形成する、スピンコーティング用の処理システムに関する。スピンコーティング処理システムは、MSA化学物質を受容し、これを基板にスピンコーティングするスピンコーティングチャンバと、スピンコーティング処理の後に、基板を熱処理するアニールチャンバとを有する。ある実施例では、スピンコーティング処理システムは、スピンコーティング処理の前に、基板を予備処理または予備ウェッティング処理しても良い。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
