マルチアングルＸ線反射散乱計測（ＸＲＳ）を用いた周期構造を計測する方法およびシステム
- 专利权人:
- リヴェラ インコーポレイテッド
- 发明人:
- ポイズ・ヒース・エー．,リード・デイビッド・エー．,シューラー・ブルーノ・ダブリュー．,スメット・ロドニー,ファントン・ジェフリー・ティー．
- 申请号：
- JP20160566853
- 公开号：
- JP2017504045(A)
- 申请日:
- 2015.01.16
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- マルチアングルＸ線反射散乱計測（ＸＲＳ）を用いた周期構造を計測する方法およびシステムが開示される。たとえば，Ｘ線反射散乱計測によって試料を計測する方法は，周期構造を有する試料上に，複数の入射角および複数の方位角を同時に提供する入射Ｘ線ビームを衝突させて，散乱Ｘ線ビームを生成することを含む，この方法はまた，上記散乱Ｘ線ビームの少なくとも一部を収集することを含む。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
