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間欠周期構造作成装置および間欠周期構造作成方法
专利权人:
キヤノンマシナリー株式会社
发明人:
二宮 孝文
申请号:
JP20150158411
公开号:
JP2017035710(A)
申请日:
2015.08.10
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】パターニングの自由度を損なうことなく、周期構造の作成時間の短縮化を図ることができ、生産性に優れた間欠周期構造の作成方法および作成装置を提供する。【解決手段】レーザの集光径、繰り返し周波数、及び加工対象物の加工閾値に応じて、同一部分におけるオーバーラップの回数が10〜300ショッ卜の間で一定値になるように、2次元ないしは3次元のガルバノスキャナでレーザ走査する位置を偏向制御する。これと同時に、周期構造に方向性を付与するための直線偏光レーザの偏光角度を、走査位置の極座標上の偏角に応じて、偏光回転素子を用いて電気的に追従制御する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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