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原子層堆積法による金属薄膜の製造方法
- 专利权人:
- 株式会社ＡＤＥＫＡ
- 发明人:
- 佐藤 宏樹,青木 雄太郎,白鳥 翼,原野 一樹
- 申请号：
- JP20160166582
- 公开号：
- JP2018035375(A)
- 申请日:
- 2016.08.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】残留炭素が少なく品質の良い金属モリブデン薄膜、金属バナジウム薄膜、金属コバルト薄膜、金属ニッケル薄膜、金属銅薄膜及び金属クロム薄膜を製造すること。【解決手段】（Ａ）モリブデン原子、バナジウム原子、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子及びクロム原子からなる群から選ばれる１種の金属原子を含有する有機金属化合物を気化させ、これを基体が設置された反応室に導入し、前記基体上に堆積させる工程、（Ｂ）塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、モノクロロシラン、ジクロロシラン、トリクロロシラン、テトラクロロシラン、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、ヨウ化メチル及び臭化メチルからなる群から選ばれる少なくとも１種の第一の反応性ガスを前記反応室に導入し前記有機金属化合物と反応させる工程、及び（Ｃ）水素、モ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
