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化粧料組成物
专利权人:
KAO CORP
发明人:
NAGASAWA MAKI,長澤 真木,HORIZUMI TERUO,堀住 輝男
申请号:
JP2013004218
公开号:
JP2013166746A
申请日:
2013.01.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cosmetic composition capable of suppressing generation of shininess caused by sebum for a long period, improving desquamation of skin, and achieving a desirable skin appearance having clean feeling.SOLUTION: A cosmetic composition includes the following components (A), (B), (C), and (D): (A) ≥0.01 to ≤5 mass%, tris(hydroxymethyl)aminomethane (B) ≥0.005 to ≤5 mass% one or more types of water-insoluble polymers selected from homopolymers or copolymers of alkyl acrylates, homopolymers or copolymers of alkyl methacrylates, alkyl acrylate-styrene copolymers, polyvinyl acetate polymers, and vinyl acetate-alkyl acrylate copolymers (C) ≥0.1 to ≤20 mass% one or more types of compounds selected from 3-8C polyols and polymers thereof and (D) water.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】皮脂によるテカリの発生を長期間抑制し、しかも肌の落屑を改善し、清潔感のある好ましい肌の外観を実現できる化粧料組成物を提供する。【解決手段】次の成分(A)、(B)、(C)並びに(D):(A)トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン 0.01質量%以上5質量%以下、(B)アクリル酸アルキルのホモポリマー又は共重合体、メタクリル酸アルキルのホモポリマー又は共重合体、アクリル酸アルキル・スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニルポリマー及び酢酸ビニル・アクリル酸アルキル共重合体から選ばれる1種又は2種以上の水不溶性高分子 0.005質量%以上5質量%以下、(C)炭素数3~8の多価アルコール及びその重合体から選ばれる1種又は2種以上 0.1質量%以上20質量%以下、(D)水を含有する化粧料組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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