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皮膚洗浄剤組成物
专利权人:
KAO CORP
发明人:
YAMADA KOHEI,山田 晃平,TOMOKUNI ATSUSHI,友國 敦史,TAJIMA JUN,田島 準
申请号:
JP2013271288
公开号:
JP2015124209A
申请日:
2013.12.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a skin cleansing composition which has a high cleansing performance against sebum or makeup articles which is hardly removed, make the skin smooth after cleansing, and has an excellent makeup performance when applying foundation.SOLUTION: The invention provides a skin cleansing composition containing (A) 0.3-20 mass% of a glycerol derivative represented by general formula (1), (B) 0.3-20 mass% of alkyl ether carboxylic acid represented by general formula (2) or a salt thereof, (C) 0.5-20 mass% of a nonionic surfactant with HLB of 8 or more, and (D) water, wherein the mass ratio (C)/((A) + (B)) of the total amount of component (A) and component (B) to component (C) in terms of the acid is 0.05-2.COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT【課題】皮脂や落ち難いメイク品に対しても、洗浄性能が高く、洗浄後の肌がなめらかになり、ファンデーションを塗布すると化粧のりがよくなる皮膚洗浄剤組成物の提供。【解決手段】(A)一般式(1)で表されるグリセリン誘導体0.3~20質量%、(B)一般式(2)で表されるアルキルエーテルカルボン酸又はその塩0.3~20質量%、(C)HLB8以上の非イオン性界面活性剤0.5~20質量%、(D)水を含有し、成分(C)と、成分(A)及び(B)の酸換算量の合計量の質量割合(C)/((A)+(B))が、0.05~2である皮膚洗浄剤組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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