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X-RAY DIFFRACTION GRATING AND X-RAY TALBOT INTERFEROMETER
专利权人:
CANON INC;キヤノン株式会社
发明人:
HANDA SOICHIRO,半田 宗一郎
申请号:
JP2015215212
公开号:
JP2017083412A
申请日:
2015.10.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray diffraction grating capable of achieving a higher visibility of an interference pattern formed at specific position due to Talbot effect with respect to an X-ray in a wider energy range.SOLUTION: An X-ray diffraction grating 1 includes: a phase advancing part 11; and a plurality of phase delay parts 12. The phase advancing part 11 has a grating material. Each of the plurality of phase delay parts 12, which is thinner in thickness of the grating material than that of the phase advancing part 11, and the area occupation rate of which in a corresponding two-dimensional grating pattern is 15-45%, is disposed in a hexagonal grating shape.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】 トールボット効果により特定の位置に形成される干渉パターンのビジビリティが、従来よりも幅広いエネルギーのX線に対して高くなるようなX線回折格子を提供すること。【解決手段】 X線回折格子1は、位相進行部11と複数の位相遅延部12とを有する。位相進行部11は格子材料を有し、複数の位相遅延部12のそれぞれは、位相進行部11よりも格子材料の厚みが薄く、対応する2次元格子パターン内での面積占有率が15%以上45%未満である複数の位相遅延部12は六角格子状に配置されている。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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