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一种气体传感器及其制造工艺
专利权人:
南京工业大学
发明人:
殷晨波,张子立,朱斌,陶春旻,董宁宁,杨柳
申请号:
CN201110366861.8
公开号:
CN102426176A
申请日:
2011.11.18
申请国别(地区):
中国
年份:
2012
代理人:
胡建华
摘要:
本发明公开了一种气体传感器及其制造工艺,气体传感器包括硅基底、二氧化硅绝热截至层、叉指信号电极、测温电极、加热电极;所述的硅基底具有通孔结构,硅基底的上表面包括通孔的顶部设有二氧化硅层,所述的二氧化硅层采用表面工艺加工成悬臂结构。二氧化硅层上表面设有叉指信号电极、测温电极和加热电极组成的电极组,电极组上表面设有二氧化锡层本发明工艺将加热电极、叉指信号电极、测温电极制作于一层,降低了制造复杂度,提高了成品率;将传感器二氧化硅层腐蚀,形成悬臂结构,减小热量的传输通道,使得传感器的功耗更低。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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