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METHOD AND ARRANGEMENT FOR GENERATING NITRIC OXIDE
专利权人:
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.
发明人:
IGNEY, Claudia, Hannelore,HILBIG, Rainer,KOERBER, Achim, Gerhard, Rolf
申请号:
IBIB2011/055347
公开号:
WO2012/073185A1
申请日:
2011.11.28
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention relates to a method for generating nitric oxide, which comprises the steps of: providing a precursor solution comprising a nitric oxide precursor in a first reservoir (12), guiding the precursor solution through a reaction chamber (16), thereby subjecting the precursor solution to radiation to generate nitric oxide, guiding the generated nitric oxide out of the reaction chamber (16) by a stream of carrier gas, and guiding the reacted solution into a second reservoir (14). The method according to the invention provides a method of generating nitric oxide, or a flow of nitric oxide comprising gas, in which the concentration of the nitric oxide may be kept especially constant. Also claimed is an apparatus for generating nitric oxide comprising reservoirs for the precursor solution and the reacted solution and a reaction chamber.La présente invention concerne un procédé de production doxyde nitrique, qui comprend les étapes consistant à introduire une solution de précurseur comprenant un précurseur doxyde nitrique dans un premier réservoir (12), à guider la solution de précurseur à travers une chambre de réaction (16), permettant ainsi de soumettre la solution de précurseur à un rayonnement pour générer de loxyde nitrique, à guider loxyde nitrique produit hors de la chambre de réaction (16) à laide dun courant de gaz porteur et à guider la solution ayant réagi dans un second réservoir (14). Le procédé selon linvention concerne un procédé de production doxyde nitrique ou dun flux de gaz comprenant de loxyde nitrique, dans lequel la concentration de loxyde nitrique peut être maintenue sensiblement constante. La présente invention concerne également un appareil pour produire de loxyde nitrique comportant des réservoirs pour la solution de précurseur et pour la solution mise en réaction, et une chambre de réaction.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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