Composition A low irritancy cleansing composition comprises: (a) an anionic surfactant compound of formula (I): wherein R1 represents a C4-36 substituted or unsubstituted hydrocarbyl group each of R2, R3, R4 and R5 independently represents a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group and wherein at least one of R2, R3, R4 and R5 is not hydrogen and M+ represents a cation (b) an amphoteric surfactant and (c) an alkoxylated non-ionic species wherein the molar ratio of component (a) to component (b) is from 0.5:1 to 2:1 and wherein the ratio of the mass of component (c) to the combined mass of components (a) and (b) is less than 1.2:1.저자극성 클린징 조성물은(a) 화학식 (I)의 음이온성 계면활성제 화합물:(상기 식에서, R1은 C4-36 치환 또는 비치환된 히드로카빌기를 나타내며, 각각의 R2, R3, R4 및 R5는 독립적으로 수소 원자 또는 C1-4 알킬기를 나타내고, R2, R3, R4 및 R5 중 적어도 하나는 수소가 아니고,M+는 양이온을 나타낸다)(b) 양쪽성 계면활성제 및(c) 알콕실레이트계 비이온성 종을 포함하고,여기서, 성분 (a) 대 성분 (b)의 몰비는 0.5:1 내지 2:1이고, 성분 (c)의 질량 대 성분 (a) 및 (b)의 합쳐진 질량의 비율은 1.2:1 미만이다.
