A low irritancy cleansing composition comprises: (a) an anionic surfactant compound of formula (I): wherein R1 represents a C4-36 substituted or unsubstituted hydrocarbyl group each of R2, R3, R4 and R5 independently represents a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group and wherein at least one of R2, R3, R4 and R5 is not hydrogen and M+ represents a cation and (b) an amphoteric surfactant wherein the molar ratio of component (a) to component (b) is from 0.25:1 to 4:1 and wherein the composition comprises less than 3 wt% polyethoxylated non-ionic species.Linvention concerne une composition de nettoyage faiblement irritante qui comprend: (a) un composé tensio-actif anionique de formule (I): R1 étant un groupe hydrocarbyle à substitution C4-36 ou non R2, R3, R4 et R5 étant chacun indépendamment un atome dhydrogène ou un groupe alkyle C1-4 et au moins lun des éléments R2, R3, R4 et R5 nétant pas hydrogène et M+ étant un cation et (b) un tensio-actif amphotérique le rapport molaire entre le composant (a) et le composant (b) étant compris entre 0,25:1 et 4:1 et la composition comprenant moins de 3 %, en poids, despèce non ionique polyéthoxylée.
