A low irritancy cleansing composition comprises: (a) an anionic surfactant compound of formula (I): wherein R1 represents a C4-36 substituted or unsubstituted hydrocarbyl group each of R2, R3, R4 and R5 independently represents a hydrogen atom or a C1-4 alkyl group and wherein at least one of R2, R3, R4 and R5 is not hydrogen and M+ represents a cation and (b) an amphoteric surfactant wherein the molar ratio of component (a) to component (b) is from 0.25:1 to 4:1 and wherein the composition comprises less than 3 wt % polyethoxylated non-ionic species.저자극성 클린징 조성물은 다음을 포함한다:(a) 화학식 (I)의 음이온성 계면활성제 화합물:(상기 식에서, R1은 C4-36 치환 또는 비치환된 히드로카빌기를 나타내며, 각각의 R2, R3, R4 및 R5는 독립적으로 수소 원자 또는 C1-4 알킬기를 나타내고, R2, R3, R4 및 R5 중 적어도 하나는 수소가 아니고,M+는 양이온을 나타낸다) 및(b) 양쪽성 계면활성제를 포함하고,여기서, 성분 (a) 대 성분 (b)의 몰비는 0.25:1 내지 4:1이고, 상기 조성물은 3 wt% 미만의 폴리에톡실레이트계 비이온성 종을 포함한다.
