METHODS AND SYSTEMS FOR MONITORING PLASMA PROCESSING SYSTEMS AND ADVANCED PROCESS AND TOOL CONTROL

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专利权人:

LAM RESEARCH CORPORATION

发明人:

GOTTSCHO RICHARD ALAN

申请号：

KR20170096724

公开号：

KR20180015582(A)

申请日:

2017.07.31

申请国别(地区):

韩国

年份:

2018

代理人:

摘要：

플라즈마 프로세싱 챔버를 동작시키는 방법 및 시스템들이 제공된다. 일 예시적인 방법은 진공 하에서 플라즈마 프로세싱 챔버 내에서 기판을 프로세싱하는 단계를 포함한다. 상기 기판의 프로세싱 단계는 플라즈마 프로세싱 챔버의 내부 영역 내의 표면들에 부착되는 미립자 잔여물들을 생성한다. 방법은 기판의 프로세싱 성능을 특징화하고 상기 기판 프로세싱 후에 상기 진공을 파괴하지 않고 플라즈마 프로세싱 챔버의 내부 영역을 검사하는 단계를 포함한다. 검사하는 단계는 플라즈마 프로세싱 챔버의 내부 영역의 하나 이상의 표면들 상의 상기 미립자 잔여물들의 특징들을 식별하도록 구성된다. 검사하는 단계는 상기 하나 이상의 표면들의 광학적 데이터를 캡처하는 것을 포함한다. 방법은 기판 프로세싱의 특징화된 성능을 특징화된 미립자 잔여물들과 상관시

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/