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粒子ビーム照射装置および粒子ビーム照射システム
专利权人:
TOSHIBA CORP
发明人:
WANG LIBO,王 立波,KANAI YOSHIHARU,金井 芳治,NAGABUCHI TERUYASU,永渕 照康
申请号:
JP2015011497
公开号:
JP2016136118A
申请日:
2015.01.23
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle beam irradiation device and a particle beam irradiation system capable of forming a desired irradiation area at a low cost.SOLUTION: The particle beam irradiation device includes: plural first electromagnets and second electromagnets. The plural first electromagnets scan a particle beam which is supplied from an accelerator in plural scan directions different from each other to irradiate an irradiation area on a target. The second electromagnets are capable of changing the deflection angle of a particle beam corresponding to at least one in plural scan directions.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】所望の照射領域を低コストで形成する粒子ビーム照射装置および粒子ビーム照射システムを提供する。【解決手段】本実施形態による粒子ビーム照射装置は、複数の第1電磁石と、第2電磁石とを備える。複数の第1電磁石は、加速器から供給される粒子ビームを互いに異なる複数の走査方向に走査して標的における照射領域に照射する。第2電磁石は、複数の走査方向の少なくとも1つに対応する粒子ビームの偏向角度を変更可能である。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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