MANDANICI, Daniel,SUTTIN, Zachary B.,LIN, Keng-Min,SANCHEZ, Olga
申请号：
USUS2019/041598
公开号：
WO2020/018372A1
申请日:
2019.07.12
申请国别(地区):
US
年份:
2020
代理人:
摘要：
An implant system and a method of forming the implant system including an implant to be implanted into living bone. The implant includes titanium. The implant includes a first surface geometry on a first portion of a surface of the implant and a second surface geometry on a second portion of the surface of the implant. The first surface geometry includes at least a submicron topography including tube-like structures and the second surface geometry includes a first micro-scale topography, a second micro-scale topography superimposed on the first topography, and a submicron topography superimposed on the first and second micro-scale topographies, the submicron topography including the tube-like structures.L'invention concerne un système d'implant et un procédé de formation du système d'implant comprenant un implant à implanter dans un os vivant. L'implant comprend du titane. L'implant comprend une première géométrie de surface sur une première partie d'une surface de l'implant et une seconde géométrie de surface sur une seconde partie de la surface de l'implant. La première géométrie de surface comprend au moins une topographie de taille inférieure au micron comprenant des structures de type tube et la seconde géométrie de surface comprend une première topographie à l'échelle microscopique, une seconde topographie à l'échelle microscopique superposée sur la première topographie, et une topographie de taille inférieure au micron superposée sur les première et seconde topographies à l'échelle microscopique, la topographie de taille inférieure au micron comprenant les structures de type tube.
