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人工爪組成物、人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット
专利权人:
FUJIFILM CORP
发明人:
USHIJIMA KENTA,牛島 健太
申请号:
JP2016022320
公开号:
JP2017141177A
申请日:
2016.02.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an artificial nail composition excellent in stability over time and also excellent in durability of a resultant artificial nail an artificial nail having a layer obtained by curing the artificial nail composition a method for removing an artificial nail, which removes the artificial nail and a nail art kit including the artificial nail composition.SOLUTION: According to the present invention, an artificial nail composition comprises: as component A, polyurethane (meth)acrylate having a structure represented by formula 1 and a structure represented by formula 2 as component B, a radical polymerizable monomer and, as component C, a photopolymerization initiator. Here, the component A has a weight average molecular weight of 8,000 or more.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】 経時安定性に優れ、得られる人工爪の耐久性に優れる人工爪組成物、上記人工爪組成物を硬化してなる層を有する人工爪、上記人工爪を除去する人工爪の除去方法、及び、上記人工爪組成物を含むネイルアートキットを提供すること。【解決手段】 成分Aとして、式1により表される構造及び式2により表される構造を有するポリウレタン(メタ)アクリレート、成分Bとして、ラジカル重合性モノマー、並びに、成分Cとして、光重合開始剤、を含み、成分Aの重量平均分子量が8,000以上であることを特徴とする人工爪組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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