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人工爪の除去方法、人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット
专利权人:
富士フイルム株式会社
发明人:
大橋 秀和
申请号:
JP2015522777
公开号:
JPWO2014199966A1
申请日:
2014.06.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
It is an object of the present invention to provide a method for removing an artificial nail which does not impair the advantages such as glossiness possessed by nail decoration and reduces the burden on the fingertip and nail without using acetone at the time of removal. Another object of the present invention is to provide a nail art kit and an artificial nail composition used in the artificial nail removal method and an artificial nail using the artificial nail composition. The method for removing an artificial nail according to the present invention comprises the steps of applying an artificial nail composition onto a nail of a human or animal or a support to form a coating film, drying and / or exposing the coating film to form an artificial nail And a removing step of removing the artificial nail by bringing the artificial nail into contact with a removing solution, wherein the artificial nail composition comprises (Component A) a compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group and / Or a polymer having an acid group (Component B), wherein the removal solution is an aqueous solution having a pH of 8 or more and 11 or less.爪装飾の有する光沢性等の長所を損なわず、かつ、除去時にアセトンを用いずに、指先や爪への負担を軽減した、人工爪の除去方法を提供することを目的とする。また、上記人工爪の除去方法に使用されるネイルアートキット及び人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪を提供することを目的とする。 本発明の人工爪の除去方法は、人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、支持体上に塗布し塗布膜を形成する工程、上記塗布膜を乾燥及び/又は露光して人工爪を形成する工程、並びに、上記人工爪を除去液に接触させて除去する除去工程を含み、上記人工爪組成物が、(成分A)エチレン性不飽和基と酸基とを有する化合物、及び/又は、(成分B)酸基を有するポリマーを含有し、上記除去液がpH8以上11以下の水溶液であることを特徴とする。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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