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人工爪組成物、人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット
专利权人:
FUJIFILM CORP
发明人:
USHIJIMA KENTA,牛島 健太
申请号:
JP2016022319
公开号:
JP2017141176A
申请日:
2016.02.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an artificial nail composition excellent in coatability and stability over time and excellent in durability of a resulting artificial nail an artificial nail having a layer obtained by curing the artificial nail composition a method for removing an artificial nail, which removes the artificial nail and a nail art kit including the artificial nail composition.SOLUTION: According to the present invention, an artificial nail composition comprises: as component A, urethane (meth)acrylate having a structure represented by any one of formulas 1 to 3 as component B, a radical polymerizable monomer and, as component C, a photopolymerization initiator. Here, in the formulas 1 to 3, R1 to R3 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, which may contain a ring structure, R4 represents a trivalent linking group having 2 to 20 carbon atoms, and an asterisk(*) represents a linking position with another structure.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】塗布性及び経時安定性に優れ、得られる人工爪の耐久性に優れる人工爪組成物、上記人工爪組成物を硬化してなる層を有する人工爪、上記人工爪を除去する人工爪の除去方法、並びに、上記人工爪組成物を含むネイルアートキットを提供すること。【解決手段】成分Aとして、式1~式3のいずれかで表される構造を有するウレタン(メタ)アクリレート、成分Bとして、ラジカル重合性モノマー、及び、成分Cとして、光重合開始剤、を含むことを特徴とする人工爪組成物。式1~式3中、R1~R3はそれぞれ独立に、環構造を含んでいてもよい炭素数2~20の2価の炭化水素基を表し、R4は、炭素数2~20の3価の連結基を表し、*は、他の構造との連結位置を表す。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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