制造化学机械抛光垫的方法
- 专利权人:
- 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司
- 发明人:
- F·V·阿赫奥拉,A·旺克,M·加萨,S·章,J·蔡,W·A·希申,J·D·塔特,L·H·蒋,S-T·金
- 申请号:
- CN201510964932.2
- 公开号:
- CN105729326B
- 申请日:
- 2015.12.21
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 陈哲锋`胡嘉倩
- 摘要:
- 提供一种制造化学机械抛光垫的方法,其中自动检查系统经配置以检测切削薄片的宏观不均匀性并且将所述切削薄片分类成可接受或待检;其中所述可接受切削薄片进一步加工形成化学机械抛光垫的抛光层。
- 来源网站:
- 中国工程科技知识中心