化学机械抛光方法
- 专利权人:
- 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司
- 发明人:
- 钱百年,郭毅,M·W·德格鲁特,G·C·雅各布
- 申请号：
- CN201610950906.9
- 公开号：
- CN106625031A
- 申请日:
- 2016.10.26
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 陈哲锋`胡嘉倩
- 摘要：
- 本发明提供一种化学机械抛光方法，包括：提供衬底，其中所述衬底包括氧化硅和氮化硅；提供抛光浆料；提供抛光垫，包括：具有组合物的抛光层，所述组合物是多个成分的反应产物，包括：多官能异氰酸酯和胺引发的多元醇固化剂；其中对所述胺引发的多元醇固化剂与所述多官能异氰酸酯的化学计量比进行选择以调节所述抛光层的去除率选择性；在抛光表面和所述衬底之间形成动态接触；将所述抛光浆料分散到在所述抛光表面和所述衬底之间的界面处或界面附近的所述抛光垫上；并且，将至少一些所述氧化硅和所述氮化硅从所述衬底上去除。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
