化学机械抛光垫、抛光层分析器和方法
- 专利权人:
- 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司;陶氏环球技术有限责任公司
- 发明人:
- F·V·阿赫奥拉,A·旺克,M·加萨,S·章,J·蔡,W·A·希申,J·D·塔特,L·H·蒋,S-T·金
- 申请号：
- CN201510965241.4
- 公开号：
- CN105729296B
- 申请日:
- 2015.12.21
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 陆蔚`陈哲锋
- 摘要：
- 提供一种化学机械抛光垫、抛光层分析器，其中所述分析器经配置以检测聚合薄片的宏观不均匀性并且将所述聚合薄片分类成可接受或待检。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
