SUN JUNJIE,ソン・ジュンジェ,ZHANG JINGJING,チョウ・ショウショウ,WEI HE,ウェ・ハ
申请号：
JP2014008153
公开号：
JP2014064955A
申请日:
2014.01.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify the control and structure of a shutter mechanism and a slit mechanism.SOLUTION: A slit mechanism device is characterized in that, in a state of blocking X ray flux, shutter plates L1,L2 block X rays, and in a state of adjusting X ray flux, a slit allowing X ray flux to pass through the shutter plates L1,L2 is always wider than a slit allowing X ray flux to pass through slit plates L3,L4.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】シャッター機構とスリット機構との制御及び構造を簡単化すること。【解決手段】スリット機構装置は、X線束を遮断する状態にある場合にシャッター板L1,L2がX線を遮断し、X線束を調整する状態にある場合にシャッター板L1,L2によりX線束を通過させるスリットは常にスリット板L3,L4によりX線束を通過させるスリットより大きいことを特徴とする。【選択図】図6
