Verfahren zum Messen von Schichtdicken einer mehrschichtigen Struktur, umfassend:Erstellen eines ersten zweidimensionalen (2D) Bilds der Struktur durch Messen einer Stärke einer Reflexion eines auf einen Ort der dem Pixel entsprechenden Struktur einfallenden ersten Lichts für jedes Pixel des ersten 2D-Bilds,Erstellen eines zweiten 2D-Bilds der Struktur durch Messen einer Stärke einer Reflexion eines auf einen Ort der dem Pixel entsprechenden Struktur einfallenden zweiten Lichts für jedes Pixel des zweiten 2D-Bilds,Bestimmen einer Dichte mindestens einer Schicht der Struktur an jedem Ort der Struktur anhand der Stärken der gemessenen Reflexionen entsprechender Pixel im ersten und zweiten 2D-Bild,wobei das erste einfallende Licht in einem ersten diskreten schmalen Spektralband erzeugt wird, das zweite einfallende Licht in einem zweiten diskreten schmalen Spektralband erzeugt wird und das erste und zweite diskrete schmale Spektralband sich nicht ganz überlappen, undwobei die Reflexstärken des ersten und zweiten einfallenden Lichts von einem Lichtsensor gemessen werden.A method of measuring layer thicknesses of a multilayered structure, comprising: forming a first two-dimensional (2D) image of the structure by measuring a magnitude of a reflection of a first light incident on a location of the structure corresponding to the pixel for each pixel of the first 2D image； second 2D image of the structure by measuring a magnitude of a reflection of incident light incident on a location of the pattern corresponding to the pixel for each pixel of the second 2D image, determining a density of at least one layer of the structure at each location of the structure from the thicknesses of the structure measured reflections of corresponding pixels in the first and second 2D images, wherein the first incident light is generated in a first discrete narrow spectral band, the second incident light is generated in a second discrete narrow spectral band and the first and second d
