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COMPUESTOS DERIVADOS DEL ACIDO 3-(ALQUILTIO)PROPENOICO Y SUS APLICACIONES COSMETICAS
专利权人:
EXSYMOL S.A.M.
发明人:
SEGUIN, MARIE-CHRISTINE
申请号:
PE0007692016
公开号:
PE01392017A1
申请日:
2016.06.09
申请国别(地区):
PE
年份:
2017
代理人:
摘要:
Refers to compounds derived from acid (Z) - 3 - (Alquiltio) - propenoic acid of formula I, where: s or so r1 is a linear or branched c1-c4 alkyl R2 is Hydrogen or c1-c4 alkyl linear or branched alkyl R3 is C1 - C3 - C18, alquenilo C18, among others. Preferred compounds are: (Z) - N - (4 - hidroxifenetil) - 3 - (methylthio) 2-propenamide and (Z) - N - (2-hydroxyethyl) - 3 - (methylthio) propenamide.It also relates to a Cosmetic composition. These compounds are useful as photoprotective agentsSe refiere a compuestos derivados del acido (Z)-3-(alquiltio)-propenoico de formula I, en donde: Y es S o SO R1 es alquilo C1-C4 lineal o ramificado R2 es hidrogeno o alquilo C1-C4 lineal o ramificado R3 es alquilo C1-C18, alquenilo C3-C18, entre otros. Son compuestos preferidos: (Z)-N-(4-hidroxifenetil)-3-(metiltio)propenamida y (Z)-N-(2-hidroxietil)-3-(metiltio)propenamida. Tambien se refiere a una composicion cosmetica. Dichos compuestos son utiles como agentes fotoprotectores
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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