研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法
- 专利权人:
- キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
- 发明人:
- グルムバイン，スティーブン,リー，ショウチャン,ワード，ウィリアム,シン，パンカジ,ディサード，ジェフリー
- 申请号：
- JP20170017492
- 公开号：
- JP6280254(B2)
- 申请日:
- 2017.02.02
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- The inventive method comprises chemically-mechanically polishing a substrate with an inventive polishing composition comprising a liquid carrier and abrasive particles that have been treated with a compound.
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
