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化学機械平坦化組成物用の複合研磨粒子及びその使用方法
专利权人:
バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー
发明人:
ジョウ ホーンジュン,ジョ−アン テリーサ シュワルツ,マルコルム グリーフ,シャオボー シ,クリシュナ ピー.ムレッラ,スティーブン チャールズ ウィンチェスター,ジョン エドワード クインシー ヒューズ,マーク レオナルド オニール,アンドリュー ジェイ.ドッド,ドンヤネシュ チャンドラカント タンボリ,レイナルド マリオ マチャド
申请号:
JP20170536539
公开号:
JP2018506618(A)
申请日:
2016.01.12
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
セリアコートシリカ粒子等の複合粒子を含む化学機械平坦化(CMP)研磨組成物は、低いディッシング、低欠陥、及び酸化物膜を研磨する高い除去速度を提供する。化学機械平坦化(CMP)研磨組成物は、軟らかい研磨パッドを用いて卓越した性能を示した。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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