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医用钛表面制备含氟羟基磷灰石/氧化锆过渡涂层的电化学方法
- 专利权人:
- 电子科技大学
- 发明人:
- 庞小峰,黄勇,严雅静
- 申请号：
- CN201110453692.1
- 公开号：
- CN103184497A
- 申请日:
- 2011.12.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种医用钛表面制备含氟羟基磷灰石/氧化锆过渡涂层的电化学方法，包括以下步骤：在具有三电极系统的电解槽中进行电沉积，医用钛片为工作电极；先在一定浓度和pH的硝酸氧锆溶液中电沉积出Zr(OH)4镀层，沉积电流11.1mA，沉积时间40s；随后在一定浓度和pH的硝酸钙、磷酸二氢铵和氟化钠组成的电解液中沉积得到含氟羟基磷灰石(FHA)镀层，沉积电流0.8mA，沉积时间3600s；经450℃真空烧结，得到FHA/ZrO2过渡涂层。氟部分取代磷灰石中的羟基，氟离子比羟基小，FHA晶格常数变小，使FHA溶解度较HA降低，涂层相貌由微米级的菊花瓣状变化为纳米级的尖锥状，F离子的抑菌作用亦可防止龋齿；ZrO2作为钛基体与FHA涂层之间的过渡层，FHA/ZrO2过渡涂层与Ti基结合强度有极大提高。FHA/ZrO2过渡涂层与钛基结合强度高，抗生理溶解性强，抗菌性好，以期望成为具有良好发展前景的口腔医用材料。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
