PLASMA CHAMBER HAVING MULTI PLASMA SOURCE

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专利权人:

NP HOLDINGS CO., LTD.

发明人:

CHOI, DAI KYU

申请号：

KR20160080691

公开号：

KR20180001799(A)

申请日:

2016.06.28

申请国别(地区):

韩国

年份:

2018

代理人:

摘要：

본 발명은 복합 플라즈마 소스를 갖는 플라즈마 챔버에 관한 것이다. 본 발명의 복합 플라즈마 소스를 갖는 플라즈마 챔버는 플라즈마가 방전되는 토로이달 형상의 플라즈마 채널을 갖는 챔버바디; 상기 챔버바디에 설치되어 상기 플라즈마 채널 내로 플라즈마 방전을 위한 제1 이온화 에너지를 제공하는 제1 플라즈마 소스; 및 상기 챔버바디에 설치되어 상기 플라즈마 채널 내로 플라즈마 방전을 위한 제2 이온화 에너지를 제공하는 제2 플라즈마 소스를 포함한다. 본 발명의 복합 플라즈마 소스를 갖는 플라즈마 챔버에 의하면, 복합적으로 방전되는 플라즈마에 의해 챔버 내로 공급된 가스가 활성화된 가스로 분해되어 배출되는 비율이 높아지게 된다. 특히, 가스 배출구에서 플라즈마를 방전시킴으로써 분해되지 않은 가스가 배출되기 전에 다시 분해될 수 있다. 활성화

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/