PLASMA GENERATION DEVICE METHOD FOR ADJUSTING PHASE DIFFERENCE AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE EMPLOYING THE SAME

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专利权人:

세메스 주식회사

发明人:

아누라그 미쉬라,멜리키안

申请号：

KR20150154007

公开号：

KR20170052062(A)

申请日:

2015.11.03

申请国别(地区):

韩国

年份:

2017

代理人:

摘要：

본 발명은 플라즈마 발생 장치, 위상 차 조절 방법, 및 그를 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는, 제 1 RF 신호를 공급하는 제 1 RF 전원; 상기 제 1 RF 신호를 공급받아 플라즈마를 발생시키는 제 1 플라즈마 소스; 제 2 RF 신호를 공급하는 제 2 RF 전원; 상기 제 2 RF 신호를 공급받아 플라즈마를 발생시키는 제 2 플라즈마 소스; 상기 제 2 플라즈마 소스의 입력단에 구비되어 상기 제 2 RF 신호의 파라미터를 감지하는 감지부; 및 상기 감지된 파라미터를 이용하여 플라즈마의 임피던스를 측정하고, 상기 측정된 임피던스를 기반으로 상기 제 1 RF 신호와 상기 제 2 RF 신호 간 위상 차를 조절하는 제어부;를 포함할 수 있다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/