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インプラント用紫外線照射装置
专利权人:
USHIO INC
发明人:
OGAWA YOSHIMASA,小川 義正,KIO TOMOHIKO,木尾 智彦
申请号:
JP2016183604
公开号:
JP2018046957A
申请日:
2016.09.21
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure that can execute uniform organic contaminant removal processing in all outer peripheral positions without unevenness in an amount of ultraviolet light irradiation onto an implant in an ultraviolet light irradiation device for an implant equipped with an ultraviolet light source disposed in a housing, and an implant holding part disposed facing the ultraviolet light source for removing an organic contaminant of the implant by ultrasonic light.SOLUTION: An implant holding part is provided with a rotation mechanism for rotating the implant holding part around the axis in the longitudinal direction of the implant.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】筐体内に配設された紫外線光源と、該紫外線光源に対向配置されたインプラント保持部とを備え、紫外線によりインプラントの有機汚染物除去を行うためのインプラント用紫外線照射装置において、インプラントへの紫外線照射量にムラがなく、全外周位置で均一な有機汚染物除去処理ができる構造を提供することである。【解決手段】前記インプラント保持部には、インプラントの長手方向の軸回りに該インプラント保持部を回転させる回転機構が設けられていることを特徴とする。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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