Die Erfindung betrifft eine plasmachirurgische Vorrichtung (2), umfassend einen HF-Generator (4) zum Erzeugen eines HF-Ansteuersignals, eine Gasquelle (6) zum Bereitstellen eines Plasmagases und einen Plasma-Applikator (8) mit einem Kanal (14), der an einem distalen Ende (16) des Applikators ausmündet und der von dem Plasmagas durchströmbar ist, und mit einer HF-Elektrode, die mit dem HF-Generator elektrisch verbunden ist, wobei die HF-Elektrode mit dem HF-Ansteuersignal beaufschlagbar ist, so dass ausgehend vom distalen Ende (16) des Applikators ein Plasma (18) bereitstellbar ist. Die plasmachirurgische Vorrichtung ist dadurch fortgebildet, dass eine Steuereinheit (28) und ein Durchflussregler (30) zum Regeln einer von der Gasquelle in dem Kanal (14) bereitgestellten Durchflussrate an Plasmagas umfasst sind, wobei die Steuereinheit dazu eingerichtet ist, eine Betriebsvariable des HF-Generators zu empfangen oder abzufragen und entsprechend einem hinterlegten Funktionszusammenhang den Durchflussregler so zu steuern, dass die Durchflussrate des Plasmagases mit einem erfassten Wert der Betriebsvariablen korreliert ist.The invention relates to a plasma-surgical device (2), comprising a HF generator (4) for generating a HF activation signal, a gas source (6) for providing a plasma gas, and a plasma applicator (8) having a channel (14) which opens out at a distal end (16) of the applicator and through which the plasma gas can flow, and having a HF electrode that is electrically connected to the HF generator, wherein the HF electrode can be supplied with the HF activation signal such that a plasma (18) can be provided originating from the distal end (16) of the applicator. The plasma-surgical device is developed such that it comprises a control unit (28) and a through-flow regulator (30) for regulating a through flow rate of plasma gas provided by the gas source in the channel (14), wherein the control unit is configured to receive or request an operating variable of the H
