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粒子束治疗计划装置、粒子束治疗系统以及存储介质
专利权人:
株式会社日立制作所
发明人:
藤井祐介,藤高伸一郎
申请号:
CN201811601480.1
公开号:
CN110314289A
申请日:
2018.26.12
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明提供一种粒子束治疗计划装置、粒子束治疗系统以及存储介质。在照射位置变更过程中也照射粒子束的连续扫描照射中,提高与活动靶有关的剂量分布的计算精度。治疗计划装置使照射粒子束的照射位置变更过程中的照射量离散以用于计算,将4DCT图像中包含的一系列的3DCT图像与从开始照射粒子束起直至照射完成为止的经过时间的信息关联起来,根据关联起来的一系列的3DCT图像与经过时间的信息,将为了计算而离散的照射量分配给3DCT图像,在分配了照射量的3DCT图像上运算粒子束的剂量分布,基于非刚性配准,计算3DCT图像间的对应位置,一直从开始照射粒子束起直至照射完成为止针对3DCT图像间的每个对应的位置将在每个3DCT图像照射期间形成的剂量分布进行累计。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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