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旋转照射装置、旋转照射方法以及旋转照射治疗装置
专利权人:
株式会社东芝
发明人:
野中智幸,松田晋弥,折笠朝文
申请号:
CN201880017816.1
公开号:
CN110418667A
申请日:
2018.13.03
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
实施方式的旋转照射装置具备:旋转机架(3);超导电磁铁(5),设置于旋转机架(3),并且形成使带电粒子束的轨道偏转的偏转磁场和使带电粒子束聚束的聚束磁场中的至少一方,将带电粒子束引导至照射对象;旋转机架驱动部(24),旋转驱动旋转机架(3);以及控制装置(20),控制旋转机架驱动部(24),以在超导电磁铁(5)被励磁的期间,使旋转机架(3)旋转并停止。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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