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無機層内の高密度インターコネクトおよび有機層内の再配線層を備える集積デバイス
专利权人:
クアルコム,インコーポレイテッド
发明人:
シーチュン・グ,ラティボル・ラドイチッチ,ドン・ウク・キム,ジェ・シク・イ
申请号:
JP20160564951
公开号:
JP2017514314(A)
申请日:
2015.04.17
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
いくつかの新規な特徴は、集積デバイスのためのベース部分と、第1のダイ(たとえば、第1のウェハレベルダイ)と、第2のダイ(たとえば、第2のウェハレベルダイ)とを含む集積デバイス(たとえば、集積パッケージ)に属する。ベース部分は、第1の無機誘電体層と、第1の無機誘電体層内に配置されたインターコネクトの第1のセットと、第1の無機誘電体層とは異なる第2の誘電体層と、第2の誘電体層内の再配線金属層のセットとを含む。第1のダイは、ベース部分の第1の表面に結合される。第2のダイは、ベーブ部分の第1の表面に結合され、第2のダイは、インターコネクトの第1のセットを介して第1のダイに電気的に結合される。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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