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スキップされた層間導電性接点を有する高密度SRAMアレイ設計
专利权人:
クアルコム,インコーポレイテッド
发明人:
ニラドリ・ナラヤン・モジュムダー,ジョンゼ・ワン,スタンリー・スンチュル・ソン,チョー・フェイ・イェプ
申请号:
JP20160564954
公开号:
JP2017515309(A)
申请日:
2015.03.30
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
静的ランダムアクセスメモリ(SRAM)セルが、メモリアレイの隣接する行内の近隣メモリセル内に延びるワード線ランディングパッドを含む第1の導電層を含む。第1の導電層内のワード線ランディングパッドは、近隣メモリセルのすべてのゲート接点から電気的に分離される。SRAMセルはまた、第1の導電層内のワード線ランディングパッドに結合されたワード線を含む第2の導電層をも含む。SRAMセルは、第1の導電層内のワード線ランディングパッドにSRAMセル内のパストランジスタゲートのゲート接点を結合する第1のビアをさらに含む。SRAMセルはまた、ワード線ランディングパッドと第2の導電層のワード線とを結合する第2のビアをも含む。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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