GEORGE J COLLINS,ジョージ ジェイ. コリンズ,KOO IL-GYO,クー イル-ギョ,YOUN HEESANG,ユン ヘサン,CHOI MYEONG YEOL,チョイ ミョン ヨル,CARL WILLIAM ALMGREN,カール ウィリアム アルムグレン
申请号：
JP2014023139
公开号：
JP2014151206A
申请日:
2014.02.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a homogenous plasma chemical reaction device.SOLUTION: A plasma system 10 comprises: a plasma device 12 including at least one electrode an ionizable media source 16 coupled to the plasma device and configured to supply ionizable media to the plasma device a precursor source 18 configured to supply at least one precursor feedstock to the plasma device 12, wherein the at least one precursor feedstock includes at least one catalyst material and a power source 14 coupled to the inner and outer electrodes and configured to ignite the ionizable media and the at least one precursor feedstock at the plasma device to form a plasma stream 32.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】均質プラズマ化学反応デバイスを提供する。【解決手段】少なくとも1つの電極を備えるプラズマデバイス12;該プラズマデバイスに接続されており、該プラズマデバイスに電離性媒体を供給するように構成された電離性媒体源16;少なくとも1種の前駆体フィードストックを該プラズマデバイス12に供給するように構成された前駆体源18であって、該少なくとも1種の前駆体フィードストックは、少なくとも1種の触媒物質を含有する、前駆体源;ならびに内側電極および外側電極に接続されており、該プラズマデバイスにおいて該電離性媒体および該少なくとも1種の前駆体フィードストックに点火してプラズマ流32を形成するように構成された電源14を備える、プラズマシステム10。【選択図】図5
