The present disclosure provides for a plasma system. The plasma system includes a plasma device, an ionizable media source, and a power source. The plasma device includes an inner electrode and an outer electrode coaxially disposed around the inner electrode. The inner electrode includes a distal portion and an insulative layer that covers at least a portion of the inner electrode. The ionizable media source is coupled to the plasma device and is configured to supply ionizable media thereto. The power source is coupled to the inner and outer electrodes, and is configured to ignite the ionizable media at the plasma device to form a plasma effluent having an electron sheath layer about the exposed distal portion.Linvention concerne un système à plasma qui comprend un dispositif à plasma, une source de milieu ionisable et une source dalimentation. Le dispositif à plasma comprend une électrode intérieure et une électrode extérieure, placée coaxialement autour de lélectrode intérieure. Lélectrode intérieure comprend une partie distale et une couche isolante qui couvre au moins une partie de lélectrode intérieure. La source de milieu ionisable, couplée au dispositif à plasma, est conçue pour fournir à celui-ci le milieu ionisable. La source dalimentation, couplée aux électrodes intérieure et extérieure, est conçue pour enflammer le milieu ionisable dans le dispositif à plasma pour former un effluent de plasma comportant une couche de gaine délectrons autour de la partie distale exposée.
