System and method for controlling the temperature in the cryogenic apparatus includes providing an apparatus having a probe and the heater element. The distal region of the probe is engaged with the target area. Use measuring and recording the current temperature and the measurement time of the proximal region of the probe, determining the slope of the temperature curve defined by the two points. The first point is defined by the current temperature and measurement time, the second point is defined by a previous measurement value and the measurement time of the proximal region temperature. If the slope is less than the slope threshold, process flag is activated, the treatment start time is recorded and the proximal region is heated by the heater element. The elapsed treatment time exceeds a duration threshold, the heating is aborted, process flag is deactivated.極低温装置における温度を制御するためのシステムおよび方法は、プローブとヒーター要素とを有する装置を提供することを含む。プローブの遠位領域が標的領域と係合する。プローブの近位領域の現在の温度および計測時刻の計測および記録を使用して、二つの点によって規定される温度曲線の傾きを決定する。第一の点は現在の温度および計測時刻によって規定され、第二の点は、近位領域温度の以前の計測値および計測時刻によって規定される。傾きが傾きしきい値未満である場合、処置フラグがアクティブ化され、処置開始時刻が記録され、近位領域がヒーター要素によって加熱される。経過処置時間が持続時間しきい値を超えると、加熱は打ち切られ、処置フラグは非アクティブ化される。
